بررسی خواص گسیل میدانی آرایه‌ی نانو‌سیم‌های اکسید روی آلاییده شده با طلا

آرایه‌ای از نانوسیم‌های اکسید روی از طریق لایه‌نشانی فلز طلادر محیط خلأ بر روی زیرلایه‌ی فلز روی به همراه اکسایش حرارتی در هوا در دمای oC 400 و به مدت 4 ساعت ساخته شد. الگویپراش پرتو ایکس مجموعه‌ای از قله‌های معینی مطابق با ساختار ورتسایت اکسید روینشان داد. تصویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص نمود که نانوسیم‌های اکسیدروی باطول چندین میکرون تشکیل شده‌اند. مطالعات طیف‌سنجی فوتوالکترون اشعه‌‌ی ایکس نشان داد کهاتم‌های Au و Zn در حالت اکسید هستند. مطالعه‌ی گسیل میدانی الکترون به وسیله‌یساختار دیودی در فشار  mbar8-10´1 صورت پذیرفت. مقدار میدان عطف،مطابق تعریف برای چگالی گسیل جریان الکترون 2µA/cm 1/0، V/µm4/2 به‌دستآمد. نمودار فولر- نوردهیم (F-N) رفتار خطی را در کل محدوده‌ی میدان اعمال شده مطابق با رفتارذاتی گسیل‌کننده‌های نیم‌رسانا نشان داده است